Tá torthaí bainte amach ag EKOLAS, tionscadal atá á mhaoiniú ag rialtas na Gearmáine. Tá éifeachtúlacht fuinnimh agus cumhacht léasair infridhearg le haghaidh próiseála ábhair thionsclaíoch níos airde fós.
Mar phríomhchomhlacht leathsheoltóra optúil' s ar domhan, tá Osram tiomanta do léasair ardchumhachta a fhorbairt d’fheidhmchláir ghairmiúla speisialta le blianta fada, mar shampla meaisíní táthú léasair ardchumhachta a úsáid le haghaidh próiseála miotail san fheithicil tionscal.
Le déanaí, sa tionscadal EKOLAS is déanaí arna mhaoiniú ag Gníomhaireacht Chónaidhme na Gearmáine um Oideachas agus Taighde, d’oibrigh Osram le comhpháirtithe chun torthaí ceannródaíocha a bhaint amach san iniúchadh ceannródaíoch ar fheidhmíocht agus éifeachtúlacht léasair.
Le fada an lá, tá Cumann EffiLAS na Gearmáine (Cumann Foinsí Léasair Ard-Éifeachtúlachta agus Ardchumhachta) tiomanta do stádas teicneolaíochta agus eacnamaíoch ceannródaíoch na Gearmáine' s a chomhdhlúthú agus a fheabhsú i réimse na fótóinice. I réimse na bhfoinsí solais léasair, tá EffiLAS tiomanta do bharrfheabhsú agus feidhmíocht bhreise, éifeachtúlacht fuinnimh agus paraiméadair theicniúla ghaolmhara eile.
Deich mbliana ó shin, ba é 200 vata an chumhacht slat léasair is fearr, agus d’fhéadfadh an éifeachtúlacht teacht ar 63%. Cúig bliana ó shin, shroich an chumhacht aschuir 250 vata agus ní raibh an éifeachtúlacht níos lú ná 60%. Ag an am sin, measadh gurbh é seo an teorainn a d’fhéadfaí a shárú, toisc gur chuir an éifeachtúlacht tiontaithe agus an teicneolaíocht fuaraithe teorainn le cumhacht aschuir an léasair ag an am sin.
Tar éis comhar oscailte agus taiscéalaíochta agus nuálaíochta, i mí Feabhra 2020, d’fhorbair Osram Opto Semiconductors agus a chomhpháirtithe cineál nua léasair infridhearg i dtionscadal EKOLAS, agus bhain siad dul chun cinn ceannródaíoch amach, ag baint amach uaschumhacht aschuir an bharra léasair suas le 400 vata. Ag cumhacht aschuir de 300 vata agus tonnfhaid 1000 agus 1020 nanaiméadar, leag an léasair taifead nua ar éifeachtúlacht 70%.
Bhain rath an tionscadail leas as an eispéireas luachmhar a fuarthas ó thionscadail EffiLAS eile, lena n-áirítear tuiscint ar eolaíocht ábhair, turgnaimh insamhalta i réimse na epitaxy, agus saineolas bunúsach i dteicneolaíocht dromchla sliseanna agus cuas.
Dúirt bainisteoir tionscadail EramOL Semic Osram Opto, Sebastian Hein: Sa tionscadal seo, bhain muid na spriocanna réamhshocraithe go léir amach, agus sháraigh roinnt torthaí ionchais fiú. Is í an eochair do rath ná go bhfuil uirlisí bogearraí nuálacha forbartha againn a insamhail tréithe leictrea-optúla léasair. Ionchorpraíonn na bogearraí seo dáileadh teirmeach, airíonna ábhair a bhaineann le teocht, agus iomadú tonn a bhaineann le mód san athshondóir. Déanann na huirlisí seo luasghéarú agus simpliú mór ar na ritheann tástála riachtanacha agus cuireann siad go bunúsach le torthaí an tionscadail.
Is féidir an taithí nua a fuarthas ó thurgnaimh insamhalta a chur i bhfeidhm freisin ar shraitheanna táirgí eile sa raon tonnfhaid 800-1060nm. Ní amháin go mbaineann na gnóthachtálacha seo buntáistí níos mó le forbairt táirgí, ach cuireann siad forbairt inbhuanaithe an tslabhra soláthair sa Ghearmáin agus san Eoraip chun cinn freisin.